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?紫外激光打標機，觸手可及！材料對355nm紫外光的吸收率高，因此紫外激光具有更廣泛的材料適應性。紫外光聚焦光斑極小，加工熱影響區微乎其微，更適合各種材料的超精細打標。
● “冷”加工方式，熱影響區極小，材料適用范圍廣
● 激光器采用腔內倍頻技術+ TEC冷卻技術，產品質量穩定
● 激光器內溫度開關自我保護，報警機制完善
● 標配功率監測模塊，在線監測激光功率，產品安全性高
華工激光半導體紫外激光打標機應用于特殊材料的精細打標、精細切割、微細加工，主要用于各種玻璃、液晶屏、紡織品、薄片陶瓷、半導體硅片、IC晶粒、藍寶石、聚合物薄膜等材料的打標和表面處理。
采用華工激光高性能紫外激光器（腔內倍頻技術+ TEC制冷技術），激光光束質量優越，為用戶帶來精致美觀的打標效果
| 項目 | 主要技術參數 | ||||
| 激光參數 | 設備型號 | LSU3EB | LSU5EB | LSU10EB | LSU15EB |
| 激光波長 | 355nm | ||||
| 單脈沖能量 | >60uj@50KHz | >110uj@50KHz | >200uj@50KHz | >250uj@50KHz | |
| 激光功率 | >3W@50kHz | >5W@50kHz | 10W@60kHz | 15W@60kHz | |
| 脈沖頻率 | 20-200KHz | 50-200KHz | |||
| 光學特性 | 掃描速度 | F=160mm,≤7000mm/s | |||
| 標刻范圍 | F=160mm/105mm×105mm（標配） F=160mm/100mm×100mm（石英透鏡） | ||||
| 100mmx100mm(標配) 130mmx130mm(選配) 160mmx 160mm(選配) | |||||
| 標準工作距離 | 210mm(標配) 248mm(選配) 300mm(選配) | ||||
| 刻印字符尺寸 | >0.06mm(標配) >0.08mm (選配) >0.1mm (選配) | ||||
| 最小標記線寬 | 0.02mm(視材料)@F=170mm | ||||
| 使用環境 | 冷卻方式 | 水冷 | |||
| 系統供電 | 2.0KW/AC220V/50Hz 2.5KW/AC220V1 | ||||
| 電壓波動范圍±5%，超出范圍使用時需配制穩壓器 | |||||
| 濕度、溫度 | 5-35C,30%<RH≤85%，超出范圍是需安裝空調 | ||||
| 油霧、凝露 | 不允許 | ||||
| 其他 | 外形尺寸（長×款×高） | 主機640x1200x1440mm/水箱430x360x575mm | |||
| 整機重量 | 215kg±10kg (木箱包裝后340kg±20kg) | ||||
